ASML High-NA光刻机将致视场（也就是单芯片极限面积）减小，GPU计算Die MCM或成必然？

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我查了一下，发现High-NA的单芯片极限面积是26*16.5=429mm²，而之前普通EUV的单芯片极限面积是26*33=858mm²，直接减半。

也就是说，TSMC N2（该工艺预计使用High-NA光刻机）的单芯片极限晶体管数量还不如N5？按官方资料，N2的密度应该是N5的1.5倍左右。